Voir®SCU臭氧化模组

硅片生产/逻辑电路/存储器制造

方案描述

传统的化学品清洁工艺采用硫酸化合物对硅片、晶圆等进行清洗，不但成本高、操作危险，还存在环境污染这一“天生劣势”。在环保、可持续发展的趋势下，化学品清洁工艺面临“退出历史舞台”的窘境，取而代之的便是更环保和节约成本的臭氧水方案。传统的化学品清洁工艺采用硫酸化合物对硅片、晶圆等进行清洗，不但成本高、操作危险，还存在环境污染这一“天生劣势”。在环保、可持续发展的趋势下，化学品清洁工艺面临“退出历史舞台”的窘境，取而代之的便是更环保和节约成本的臭氧水方案。
Voir®SCU臭氧化模组能过滤去除臭氧气体中的颗粒，其独特的含氟聚合物结构，可生成更高洁净度的臭氧水，确保在硅片和平板显示器的清洁过程不会被有机杂质污染。

产品特点

1. 内置折叠微孔过滤氟膜（e-PTFE）核心材料，过滤去除臭氧气体中的颗粒，无气泡，生成高洁净度的臭氧水，保证设备部件清洗过程不会有杂质污染；
2. 模组采用全氟材质：折叠滤膜采用专有超薄e-PTFE（膨体聚四氟乙烯），外敷层采用超薄PTFE含氟编织层，外壳采用PFA氟材；
3. 臭氧气体溶解于超高纯水中，生成臭氧水，通过管控臭氧水浓度和流量保持一致性从而达到更稳定效果；
4. 基于e-PTFE微孔材料技术臭氧过滤模组高进水压能提高浓度和洁净度从而提升生产效率；
5. 解决氟聚合物过滤器供应链困境；
6. VOIR 多年的含氟聚合物薄膜研究开发应用经验。

应用领域

1. 硅片生产；
2. 逻辑电路和存储器制造；
3. LED / OLED / QOLED平板显示器生产；
4. 光掩膜制造等领域。