2024.12.18 杭州  液体纯度对于半导体制程中蚀刻、清洗、光刻和化学机械平面化（CMP）工艺至关重要。随着技术节点缩小到7nm及以下需要捕获、拦截、去除

更小颗粒物变得至关重要。

半导体液体过滤图

1. 耐化学腐蚀性、耐高温微孔ePTFE膜技术决定了滤芯截留率和流量。

2. 滤芯折叠、组装及清洗工艺技术决定了全氟滤器本身洁净度。

沃瑞VHF1全氟滤器满足半导体制程预终端过滤需求: 

1.全氟结构：从内嵌ePTFE到外壳成型PFA ;

2.超高精度过滤：0.1um，0.05um，0.03um ;

3.化学兼容性：基于氟聚合物特性满足高温，强腐蚀 ;

4.高洁净度：严格的清洗工艺，低离子析出。

沃瑞过滤和分离解决方案：

1.掌握从ePTFE微孔材料技术到滤芯折叠，整体组装以及清洗工艺技术链条;

2.关键ePTFE微孔源自自研自有亲/梳水滤膜，不存在供应链困境;

3.拥有15年的ePTFE微孔材料技术经验，建有专用半导体滤膜产线;

4.配有全氟滤器从折叠熔接到组装清洗实验室。

欢迎随时索样并咨询，愿意接受挑战。

关于沃瑞半导体（杭州）有限公司VOIR®SCU

      基于氟聚合物材料技术，助力半导体厂商提供可靠信号传输，提高芯片光刻系统效率及良率，为芯片制程及清洗提供全氟微

过滤及密封防护方案。已为多家半导体厂商提供方案产品包括亚洲领先的半导体厂商。

1.光刻防尘方案（光掩模防尘罩组件）叶先生 13680742014；

2.无尘传输方案（真空无尘电缆）李先生 13927334629；

3.全氟过滤方案（全氟滤器）曹先生 13923623980。

沃瑞半导体(杭州)有限公司

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