2022.11.10 深圳  沃瑞®SCU 推出臭氧化模组，助力半导体厂商提高工艺过滤效能以及解决半导体材料部件供应链困境。传统的半导体设备清洗清洁采用的是化学品不仅不环保，危险且使用和维护成本高。

       半导体和微电子制程中，需要高精度过滤，保证工艺纯度和提高效能，过滤清洗晶圆设备的同时需要安全和环保，氟聚合物天然的物理、化学特性是过滤的理想材料。

       VOIR®SCU臭氧化模组，无气泡的臭氧水解决方案，帮助半导体厂商提升工艺效能。

       1. 内置折叠微孔过滤氟膜（e-PTFE）核心材料，过滤去除臭氧气体中的颗粒，无气泡，生成高洁净度的臭氧水，保证设备部件清洗过程不会有杂质污染。

       2. 模组采用全氟材质：折叠滤膜采用专有超薄e-PTFE（膨体聚四氟乙烯），外敷层采用超薄PTFE含氟编织层，外壳采用PFA氟材。

       3. 臭氧气体溶解于超高纯水中，生成臭氧水，通过管控臭氧水浓度和流量保持一致性从而达到更稳定效果。

       4. 基于e-PTFE微孔材料技术臭氧过滤模组高进水压能提高浓度和洁净度从而提升生产效率。

       5. 解决氟聚合物过滤器供应链困境。

       6. VOIR 多年的含氟聚合物薄膜研究开发应用经验。

    氟聚合物的臭氧化模组典型应用于：

1. 硅片生产。

2. 逻辑电路和存储器制造。

3. LED / OLED / QOLED平板显示器生产。

4. 光掩膜制造等领域。

沃瑞半导体材料部件事业部(VOIR®SCU)

       VOIR®SCU是沃瑞科技专注半导体领域的材料零部件事业部，基于氟聚合物材料及线缆组件传输方案产品，助力芯片制造/封装/封测 设备厂商提供可靠的信号传输，为光刻光照，过滤清洗提供PTFE滤膜，滤芯组件以及氟密封防护方案。已为多家半导体厂商提供方案产品包括亚洲领先半导体厂商。